ЛекцияСеминар, Мастер-класс, Показ, ЭкскурсияЦикл событийФестиваль, конференция, форумКурсМагистратура, MBA, ТренингГрантРезиденции, стажировки, конкурсыPromoПродвижение анонса
Header-search-clear

ИНОЕ ЛИЦО. Воркшоп-практикум с фотографом Сергеем Быковым

14дней
5 000 рублей
Программа курса

Четыре встречи, четыре захватывающих фото-эксперимента. Создание собственной маски, съемка в ней, печать фотографий и анализ полученного опыта. Хотите пополнить портфолио неординарными снимками и к тому же незабываемо провести Хэллоуин? Присоединяйтесь!

Воркшоп предполагает интерес участников к фото-перевоплощению и созиданию иных фото-сущностей. Не обязательно для этого быть фотографом. Достаточно воображения, энтузиазма и интереса к фотографии. Минимальными фото-навыками, необходимыми чтобы сделать правильный снимок, мы с вами поделимся! Можно снимать на аналоговую камеру или смартфон, — это ваш выбор. В процессе участники изготовят каждый свою одну или несколько масок. Приветствуется сделать что-то интуитивно, без «ментальной» привязки образа к уже существующим и общеизвестным. Вместе мы постараемся найти интересное фото-решение для обретенного образа. На улице ли, на природе, в интерьере — опять же — решать вам самим. Как результат возможны появления интересной серии или нескольких одиночных, самодостаточных снимков.

Расписание

23 октября, 1-я встреча: знакомство, обсуждение темы, просмотр существующих фото-авторов, использовавших в своем творчестве маски и их работ. наброски.

(Практическое задание: Основываясь на рассмотренных на первой встрече возможностей использования и вариантов масок, определиться ко второй встрече какой вариант маски вам хотелось бы сделать и купить все необходимые ингредиенты для ее изготовления. Если будут необходимы, то продумать и найти сопутствующие маске атрибуты.)

30 октября, 2-я встреча: изготовление маски, атрибутов, пробы «войти в роль»

6 ноября, 3-я встреча: съемка в пространстве «Маяк». выбор лучшего/их снимков. (предпочтительнее снимать на цифровой девайс)

(Практическое задание: неделю между 3-ей и 4-ой встречей посвятить самостоятельным попыткам снять созданную вами маску в любых, кажущихся вам для нее подходящих условиях. на себе или выбранной вами модели.)

13 ноября, 4-я встреча: анализ проведенных экспериментов. отбор лучших образов. аналоговая печать с цифрового носителя.

Смотрите также

Комментарии

Комментировать
Close